制藥廠光氧紫外線裂解技術包效果UV光解主要工藝段技術原理：

眾所周知，紫外線是由電磁波組成，其本身所帶有的能量與波長直接有關，波長越短，能量越大。通過采用D波段內的真空紫外線（波長范圍170~184.9nm），照射有機氣體或惡臭氣體分子，當這些氣體分子吸收了這類紫外線光后，因紫外線光本身所帶有的能量，使有機氣體或惡臭氣體分子內部發生裂解，化學鍵斷裂，形成游離狀態的原子或基團（C*、H*、O*等）。同時，混合氣體中的氧氣被紫外線光裂解形成游離的氧原子并結合生成臭氧【UV O2→O-O*(活性氧)O*O2→O3(臭氧)】；混合氣體中的水蒸氣被紫外線光裂解產生羥基【UV H2O→H OH-(羥基)】，而這些生成的臭氧和羥基具有極強的氧化性，可將廢氣分子裂解產生的原子和基團（甚至是有機氣體或惡臭氣體分子）氧化成H2O和CO2等無污染的低分子化合物。另外，利用高能紫外線光束可裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應，徹底達到脫臭及殺菌的目的。

制藥廠光氧紫外線裂解技術包效果廢氣的光解氧化機理包括兩個過程：

1.在產生高能離子群體的過程中，一定數量的有害氣體分子受高能作用，本身分解成單質或轉化為無害物質。

2.含有大量高能粒子和高活性的自由基的離子群體，與大分子氣體（如苯、甲苯等）作用，打開了其分子內部的化學鍵，轉化為無害的小分子物質。新生態的氧離子具有很強的氧化性，它能有效的氧化分解不受負離子作用控制的有機物。和廢氣反應后多余的氧離子（正），能與氧離子（負）很快結合成中性氧，因而不會更多地對設備及環境造成不利影響。

技術特dian：

（1）低溫深度反應：

光催化氧化可在常溫將空氣、水和土壤中有機污染物完全氧化成無毒無害的物質。而傳統的高溫焚燒技術則需要在極高的溫度下才可將污染物摧毀，即使用常規的催化氧化方法亦需要幾bai度的高溫。

（2）凈化徹底：

它直接將空氣中的有機污染物，完全氧化成無毒無害的物質，不留任何無二次污染，目前廣泛采用活性炭吸附法不分解污染物，只是將污染源轉移。

（3）綠色能源：

光催化可利用太陽光作為能源來活化光催化劑，驅動氧化一還原反應，而且光催化劑在反應過程中并不消耗。從能源角度而言，這一特征使光催化技術更具魅力。

（4）氧化性強：

大量研究表明，半導體光催化具有氧化性強的特點，對臭氧難以氧化的某些有機物如三lv甲wan、四氯化碳、六氯苯、都能有效地加以分解，所以難以降解的有機物具有特別意義，光催化的有效氧化劑是羥基自由基（OH），OH的氧化性高于常見的臭氧、雙氧水、高錳酸鉀、次氯酸等。

（5）廣譜性：

光催化對從烴到羧酸的種類眾多有機物有效，沒過環保署公布的九大類14中污染物均被證實可通過光催化得到治理，即使對原子有機物如鹵代烴、染料、含氮有機物、有機磷殺蟲劑也有的去除效果，一般經過持續反應可達到完全凈化。

（6）壽命長：

理論上，催化劑的壽命是無限長。